1月19日晚，国内半导体材料公司精锐发布公告，声称已从ASML购买了一台光刻机，该光刻机将用于高端光刻胶项目。
景瑞说，自公司开始设备采购活动以来，受到了投资者的广泛关注。
经过多方协商和公司的积极运作，成功购买了一台ASMLXT1900Gi光刻机。
该设备于2021年1月19日到达苏州，并成功转移到该公司的高端光刻胶研发实验室中。
下一步，公司将积极组织相关资源，以尽快完成设备的安装和调试。
根据精锐公司的信息，该公司购买的光刻设备是ASMLXT1900Gi ArF浸没式光刻机，可用于开发最大分辨率为28nm的高端光刻胶。
另外，在ASML中，28nm级光刻机不是很多高级模型。
官方网站上列出的最古老的浸没式光刻机型号也为XT1965CI，可用于20nm以下的工艺。
然而，晶锐公司购买的光刻机却花费了1102.5万美元，约合人民币7129万元，这是非常有价值的。
晶锐公司表示，该公司已经批量生产了近30年的光致抗蚀剂，并在中国建立了领先的光致抗蚀剂研发团队。
它在光致抗蚀剂的研发和生产方面具有丰富的经验，并承担了国家“ 85”标准的要求。
关键研究和“ 863”计划主要研究团队。
特殊项目，科技部创新基金等科技项目，承担了国家02重大专项“ i-line光致抗蚀剂产品的开发与产业化”。
项目，并顺利通过了国家02重大专项验收。
该公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，分辨率达到0.15μm。
这次购买的ASML光刻设备是该公司用于集成电路制造的高端光刻胶研发项目的必要实验设备。
目的是开发高端ArF光刻胶。
如果研发工作顺利进行，将有助于公司实现光致抗蚀剂产品序列的实现，实现ArF光致抗蚀剂的跨越式发展，最终实现12英寸芯片制造的战略布局。
负责编辑AJX